직/편성물 염색

CSIRO에서의 염색기술에 대한 최근 진보

  • 출판일1995.08
  • 저자
  • 서지사항
  • 등록일 2016.11.02
  • 조회수 268
CSIRO에서는 최근 염색 관련 연구테마를 결정함에 있어서 ①염색 양모제품의 품질유지 ②환경에 대한 영향을 최소한으로 억제시키는 쪽으로 중점을 두고 있고, 이에 따라 추진되는 연구과제를 소개하면 다음과 같다. (1)저온염색∼고온염색에 따른 양모의 품질저하는 카드나 정소면의 기계처리공정에서의 생산량 감소 및 최종제품의 항변, 마모·파열 강도 등의 물성저하를 초래한다. 낮은 pH(산성쪽)에서의 염색은 주로 폴리펩티드쇄의 아미드결합 절단문제를 발생시키고, 높은 pH(알칼리쪽)에서의 염색은 폴리펩티드쇄간의 가교결합절단이나 디술파이드 결합의 가수분해로 인해 손상을 초래한다. 등전점(pH4.5∼5.2) 부근에서의 염색은 손상을 최소한으로 억제하지만 미처리에 비해서는 손상된다. CSIRO에서는 Sirolan LTD법으로 불리는 새로운 저온 염색법을 개발하였는데, 이것은 세포막 착체(錯體)의 형태가 섬유 내부로의 염료 흡착량의 증대나 확산속도의 촉진을 가져오게 하며, 양모섬유에의 염료확산기구에 대한 기초연구에 근거해서 개발한 방법이다. (2)앤티세팅 염색기술∼염색중에 발생하는 영구세팅이 품질저하의 또 다른 원인이므로, 이 영구세팅을 방지하기 위해 앤티세팅 염색
이전글 다음글 목록