직/편성물 염색

플라즈마 중합법에 의한 폴리에스테르사의 소수화와 염색견뢰도 향상

  • 출판일1995.12
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  • 서지사항
  • 등록일 2016.11.02
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저압플라즈마장치를 사용하여 진공중에 magnetron을 통하여 마이크로파 방사(f=2.45)를 보냈다. 전자 cyclotron 공명을 사용하여 약 5Pa의 저압에서 마이크로파의 플라즈마를 발생시켰다. 중합에 사용한 모노머는 trifluoromethane(CF₃H), methane(CH₄), ethylene(C₂H₄), 규소함유 hexamethyldisiloxane(HMDSO), tetramethylsilane(TMS) 및 이들과 수소와의 혼합가스이다. 기질로는 P.E yarn과 film을 사용. 플라즈마 폴리머의 소수성을 결정하기 위하여 코팅된 필름의 표면장력을 Kahn 칭량기로 측정했는데, 이는 Wilhelmy-Plathen법에 대응하기 위해서였다. 미처리 P.E의 전표면에너지는 33mN/m, 산의 전기음성도에 의한 극성에너지성분은 4mN/m였다. 에틸렌으로 코팅하면 표면의 산을 함유한 그룹이 탄솨수소기에 의해 감소하는 결과 표면에너지의 산성성분이 감소하여 소수성이 높아지는 것으로 밝혀졌다. 불소, 규소를 함유한 모노머의 코팅에서는 매우 적은 극성성분(0-0.5mN/m)이 남았다. 코팅의 마모시험 결과 안정도가 판정되었는데, 그중에는 H₂/TMS와 H₂/C₂H₄가 특히 강했다. 코팅섬유의 염색성은 CF₃H, HMDSO, TMS 코팅은 염색을 방해했고, CH₄는 분산염료 염색성에 대
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